作 者 | 張傳召,張兆冬,馬萬征,鄭慶瑤,鄒長明,萬夢,徐彥涵 |
第一作者 | 張傳召 |
作者單位 | 蚌埠市五河縣東劉集農技站,安徽五河 |
卷 號 | 48 |
發表年份 | 2020 |
發表刊期 | 2 |
發表頁面 | 63-66,69 |
關 鍵 字 | 溫室;黃瓜;營養液;營養元素 |
摘 要 | 在智能溫室條件下,以京津優2號為試驗材料,采用以珍珠巖為載體的無土栽培方式,研究在不同濃度營養液處理下溫室黃瓜的生長情況。利用T1、T2、T3、T4、T5 5個濃度梯度的霍格蘭營養液,測定不同濃度營養液下溫室黃瓜的鮮重、干重、葉面積,確定營養液中各元素含量的上限。結果表明,T4處理為黃瓜生長發育的最適濃度,營養液中氮含量上限為8.591 mg/L,磷含量上限為3.32 mg/L,鉀含量上限為263.63 mg/L。 |
附 件 | 不同營養液濃度下溫室黃瓜營養元素含量上限的確定 |
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