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2022年01期
硅對西瓜幼苗生長·光合特性及保護酶活性的影響
| 作 者 | 趙曉美，李正為，于文進，李家文，周艷霞，龍明華 |
| 第一作者 | 趙曉美 |
| 作者單位 | 桂林市農業科學研究中心/廣西農業科學院桂林分院，廣西桂林 |
| 卷 號 | 50 |
| 發表年份 | 2022 |
| 發表刊期 | 1 |
| 發表頁面 | 151-153，157 |
| 關 鍵 字 | 西瓜幼苗；硅；生長；光合特性；酶活性 |
| 摘 要 | ［目的］研究不同濃度硅（Si）對西瓜幼苗生長、光合特性及保護性酶活性的影響，為探究外源硅對西瓜幼苗生長及生理特性的影響提供理論依據。［方法］ 以“早佳8424”西瓜為試驗材料，采用水培法，硅酸鉀作為硅源，研究不同硅濃度0 mg/L（CK）、28 mg/L（T1）、56 mg/L（T2）和84 mg/L（T3）4個處理對西瓜幼苗生長指標、光合指標及保護酶活性的影響。［結果］ 在0~84 mg/L硅濃度范圍內，蒸騰速率（Tr）隨硅濃度的增加而降低，葉綠素含量（SPAD值）、POD和SOD活性隨硅濃度的增加而升高；56 mg/L硅處理的植株生長速度最快；植株鮮重分別較T3、T1、CK處理顯著增加33.47%、52.42%、65.59%，干重分別較T3、T1、CK 處理顯著增加32.43%、48.48%、66.10%；根系長度分別較T3、T1、CK處理顯著增加40.32%、37.99%、43.47%；凈光合速率較T1、CK顯著增加32.78%、3753%，氣孔導度分別較T3、T1、CK顯著增加85.71%、191.84%、150.88%，胞間CO2濃度分別較T3、T1、CK顯著增加4.09%、7.89%、8.75%；T1、T2、T3處理的POD、SOD活性分別在第6天、第3 天達到最大，其中在84 mg/L硅濃度處理POD、SOD活性高于其他處理。［結論］施用外源硅可以提高西瓜幼苗的光合作用和抗氧化酶活性，促進西瓜幼苗的生長，其中營養液硅濃度以56 mg/L為好。 |
| 附 件 |
硅對西瓜幼苗生長·光合特性及保護酶活性的影響
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